什么是PVD 技術(shù) 

PVD-物理氣相沉積：指利用物理過(guò)程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過(guò)程。

它的作用是可以使某些有特殊性能（強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。

PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD 技術(shù)是目前國(guó)際上科技含量高且被廣泛應(yīng)用的離子鍍膜技術(shù)，它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強(qiáng)、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點(diǎn).

PVD 本身鍍膜過(guò)程是高溫狀態(tài)下，等離子場(chǎng)下的輝光反應(yīng)，亦是一個(gè)高凈化處理過(guò)程；鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主，鈦是金屬中最與人體皮膚具親和性能的，使得PVD 產(chǎn)品本身具備純凈的環(huán)保性能。